伝達特性の直線性5 (Bi-Tr差動の共通エミッタ間にバイパス路を設けた新形式) |
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SEPP差動接続のバイアス印加方法の改良 前回、J-FETのSEPP差動接続の解析で、 1、普通の差動回路(コンプリ差動の単なる並列化) 2、コンプリメンタリSEPPの差動接続 3、差動ペアの共通ソース間にRsを挿入してバイアス調整 の各方式の特性を比較した。 右の回路図の左側は、上から1、2、3の回路に対応する接続方法を示している。 ここで、3つ目の図は抵抗Rsの自己バイアスではなくて、電圧源を代わりに挿入している。 2のコンプリメンタリSEPPの差動接続では、アイドリングを調整するには各FETのゲート4つに個々にバイアス電圧を印加必要であるが、このようにすると、1個の電圧源で済み、さらにRs挿入による3次歪み発生をなくす事ができ、大きな改善になる。 図の右側列の回路は、Bi-Trで同様に回路を構成した物であり、コンプリメンタリSEPPを構成する為のベースバイアスが1個に集約できる方法が3つ目の接続になる。 Bi-Trでの差動回路、SEPP回路の直線性はすでに検討した通りであり、バイアス電圧源を1個に集約した場合でも特性はSEPPと変わりはない。(IcRe=13mVになる値のRe挿入で最も直線性が良い) コンプリメンタリSEPPの差動接続では、4つのトランジスタ全てに個別のRe挿入が必要であり、部品数が多い。 共通ソース間にバイアス源を移動したのに合わせ、4つのReも1つにまとめれば回路がシンプルになる。 この場合にどのような特性になるかを計算した。 |
共通エミッタ間を電圧源でバイパスした場合の直線性 右のグラフは、各TrのアイドリングIc=0.1mAに揃えた場合の入力電圧振幅に対する伝達gmの直線性を比較している。 青はRe=130ΩのコンプリメンタリSEPP差動接続であり、最適条件を与えているために良い直線性を示す。 緑は同じRe=130Ωの差動コンプリメンタリ並列接続の場合で、gmの曲がりが大きく、3次歪みが大きい。これらはすでに差動やSEPP回路で解析済みの内容である。 赤がバイアス回路を1個にまとめた場合のgm特性で、4つのReも1個(電圧源に直列に130Ω)にしている。 同じ電流の差動と比較して、Reの挿入場所が違う(差動部分に対してはReが入っていない)ので、ゼロ点でのgmは4つのRe=130Ωを挿入した場合に較べて1.5倍ある。 大振幅では、SEPPと較べてエミッタ間に入るReが1個しかないので、gm増大のペースが早く、gmの直線範囲は少し狭くなっている。 電圧源にシリーズに入れないで、各エミッタに130Ω4個を挿入すれば、特性はSEPPと全く同じになる。 以上の解析では、Bi-Trではバイアスの簡略化の効果はあっても、特性的なアドバンテージは得られていない。 しかし、バイアス回路の実現方法を変えると、非常に素晴らしい特性が得られる。これが共通エミッタ間にバイパス路を設けた新方式である。 |
バイアス電圧発生方法とgm特性改善効果 これまでの解析では、共通エミッタ間にフローティングの電圧源を挿入することでトランジスタのベースバイアスを与えていた。 実際の回路では電池を入れるわけにはいかないので、現実的な回路に置き換えた場合の一例が右図である。(これ以外にもバイアスを発生させる回路は沢山あるが、ここではこの回路で解析する。) 単純な差動のコンプリメンタリ並列回路の共通エミッタ間にトランジスタ2個分のVbeを挿入し、バイパス路を形成している。 バイパス路の2個のトランジスタの動作抵抗と挿入したReの合計が、SEPP時の最適条件:IcRe=13mVとなる時に、中心でのgm曲がりが平坦となる。 理想電圧源であれば、流せる電流に限界はないが、バイパスした電流で電圧を得ているために、共通エミッタのテール電流以上を流すことはできず、大振幅ではgm特性が低下する傾向となる。 つまり、SEPPでの大振幅時のgm増加傾向と、差動テール電流制限でのgm低下傾向をうまくバランスさせれば、SEPPを超える範囲でのgm平坦化を期待できる。 実際にバイパス路の電流比を変化させて特性の変化を見たのが、右のグラフである。 差動部のIc=0.1mAなのでIcRe=13mVとなるReの値は130Ωであり、バイパス路の動作インピーダンスは合計130Ωが必要。 テール電流が0.6mAの時はバイパスに0.4mAなのでVbe2個分の動作抵抗は2*26/0.4=130 したがって付加する外部Re=0Ω。 同様に、テール電流1mA時はバイパス0.8mAなのでVbe2個分の動作抵抗は2*26/0.8=65 したがって付加する外部Re=65Ω。 この条件でバイパス路に必要な電流を流す為には、トランジスタをダーリントン接続にしてPNPの電流をNPNの1/hfeにし、Vbeの差分+付加Re電圧降下分との電圧差を発生させる。 具体的には、バイパスとの電流比が6(テール電流=0.8mA)ではNPNのhfe=100が必要となる。 図で分かるように、バイパスとの電流比が6.5-7(Ic=0.1mA*2の場合はテール電流=0.85-0.9mA)で最大平坦特性となる。この時に必要なNPNのhfeは150-200程度であり、NPN/PNPにA1015/C1815のYランクのような普通のトランジスタを使用できる。 この回路構成(Bi-Tr コンプリメンタリ差動回路の共通エミッタ間に2Vbe電圧のバイパス路を設けた形式)を、以下では「新形式セル」と略す。 |
SEPP差動接続との直線性比較 gm値を揃えるため、SEPPのIc=0.1mAに対し、新形式セルはIc=67uAに電流を下げた条件で比較した。 (同じアイドリングでは、上に出した図のようにgmの値は1.5倍となる。電流や抵抗比を同じに保てば、設定電流が異なっても入力Viに対するgmの変化は相似形となり、100mVでの変化%は同一) アイドリングが2/3しかないにも関わらず、gm直線範囲はSEPPより広く、同じ電流なら2倍の出力振幅までほぼ無歪みを維持できる。 この、新形式セルのgm直線化の基本原理は、有名な Multi-tanh 方式 =動作点をずらした差動回路を並列動作 とよく似ている。 実際、同じ特性はテール電流を0.5mAにした2個の差動回路並列 Multi-tanh で実現することが出来る。 しかし、Multi-tanhとは接続トポロジーが異なるので、新形式セルは ・約1/4の低いアイドリング電流で同じ特性 ・必要なバイアスをダーリントン接続1個で実現 の違いがある。 |
SEPP差動接続との直線性比較
新形式セルの歪み発生量を、通常の差動やコンプリメンタリSEPPと比較した。(アイドリング条件を0.1mAに揃えた場合) いずれも4石のコレクタ出力を全て加算しているので、差動とSEPPのグラフは、電流値が以前の2倍になっている以外はすでに検討済みのデータと同じカーブである。 新形式セルは、SEPPのA級動作範囲より一桁低い歪み率で同じアイドリングであるにも関わらず、2倍の電流振幅まで低歪を保っている。 これは、実にアイドリングの2倍の振幅まで無歪み動作が可能である事を示している。 Multi-tanh 方式による直線化では、アイドリングの半分弱までしか平坦化出来ないので、同じ電流振幅を得ようとすると4倍以上のアイドリングを流さなくてはならない。 直線化の補正をしない、単なる差動回路でも4倍のアイドリングを流せば電流の3乗で歪みは低下するので、1/64になり、何もしなくてもSEPPの最適化したカーブに近付く。 Bi-TrをOPアンプの入力段に使用する場合、アイドリングの値はベースバイアス電流と入力ノイズ電流を決定し、非常に大きな要素となる。 アイドリングを大きくすれば初段の歪みやDレンジ(最大出力電流)は改善されるが、バイアス電流や入力ノイズ電流は犠牲となり、通常両者はトレードオフの関係にある。 新形式セルでは、 ・小さなアイドリング電流で非常に低歪み(差動の1/1000以下) ・同じアイドリングで最大電流は差動の4倍あり、ダイナミックレンジが大きい ・SEPPのような熱暴走の危険がない ・回路がシンプルで回路素子数が少ない の特徴があり、特許に値する非常に有用な技術と思われる。 この回路を考案したのは2004年の頃であり、会社内で技術職に異動後に特許のノルマから2005年に一度特許提案を出したことがある。 (技術に移ってすぐ仕事の特許が書ける訳はないので、個人的に温めていたアイデアを出した) がしかし、社ではこのような基本回路の需要はなく、提案は不採用でボツと消えた。 これが「公知の技術」となったのは、2010/10/05の上條さんのBBSでの発言 が初出である。 |
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